机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:掩模粗糙度对极限UV和193 nm浸没式光刻的影响
机译:使用带有新开发的偏振光学元件的掩模对193 nm光刻设备进行偏振诊断
机译:193 nm光刻的相移掩模问题
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:高度对准的聚合物纳米线蚀刻掩模光刻可实现石墨烯纳米孔晶体管的整合
机译:用于193nm光刻的Tisi-氮化物衰减相移光掩模
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面